Elektronenstrahlbeschichtungsverfahren

Die Elektronenstrahlbeschichtungsverfahren beruhen wie die Widerstands- oder thermische Verdampfer auf dem Prinzip der Erwärmung eines Materials, allerdings nicht durch die Erhitzung infolge Stromdurchgangs durch einen Verdampfer sondern durch den Beschuß des in einem gekühlten Tiegel liegenden Beschichtungsmaterials (Ingot) mittels eines mehr oder minder fokussierten Elektronenstrahls.
Mit dem Elektronenstrahlbeschichtungsverfahren lassen sich relativ hohe Energiedichten und Temperaturen erzeugen, ein Vorteil, wenn Schichten mit hohen Verdampfungs- geschwindigkeiten (Aufdampfraten) hergestellt werden sollen. Aufgrund der Kühlung des Verdampfungsmaterials gelangen d.R. keine Verunreinigungen in das zu verdampfende Material, es können sehr reine Schichten erzeugt werden.
Ein weiterer Vorteil des E-Strahl-Verfahrens ist die Möglichkeit, hochschmelzende Materialien, Legierungen, oxidische und andere chemische Verbindungen und Nichtmetalle zu verdampfen. Die Anforderung an die Aufdampfanlage (Beschichtungsanlage) bezüglich der Arbeitsdrücke sind relativ hoch, so sollten die Startdrücke für die Beschichtung für entsprechende Schicht- reinheiten bei </= 10^-5 mbar liegen.