Vakuum-Beschichtungsanlagen

Zu Ihrer speziell gewünschten Anlagenkonfiguration beraten wir Sie gern, nehmen Sie einfach Kontakt mit uns auf. 
Hier sehen Sie einige Beispiele neuer Beschichtungsanlagen:

Anlage: KBA 1-3 Beschreibung: Automatische Sputter-Beschichtungsanlagen in der Feintechnik GmbH Eisfeld Bilder der Anlage

Anlage: MSBA-400SPW Beschreibung: Die Anlage dient zum Beschichten von Substraten mittels Sputtern und thermischen Verdampfer Grundausstattung: Heizkühlbare Edelstahlkammer Pumpsatz mit mechanischer Vorvakuumpumpe und Turbomolekularpumpe Bypassleitung Gaseinlaßsystem für 2 Gase Downstream-Regelventil in Verbindung mit kapazitiven Drucksensor 2 Shutter Weitbereichs-Vakuummesstechnik Manuelle Substratdreheinrichtung 2 Sputterquellen für 100mm-Targets mit 2 DC-Generatoren Widerstandsverdampfer Glimmeinrichtung Schaltschrank mit SPS-Steuerung Visualisierung und Bedienung über TFT-Farb-Touch&Click-Terminal Wasserheizgerät zur Kammerkonfektionierung magnetventilgesteuerter Wasserverteiler Daten Pumpstand: Enddruck < 3x10-7 mbar Evakuierungszeit: auf 1x10-6 mbar < 20 Minuten Bilder der Anlage

Anlage: MSBA-400SP Beschreibung: Die Anlage dient zum Beschichten von Substraten mittels HF- und DC-Sputtern Grundausstattung: Heizkühlbare Edelstahlkammer Pumpsatz mit mechanischer Vorvakuumpumpe und Turbomolekularpumpe Bypassleitung Gaseinlaßsystem für 2 Gase Downstream-Regelventil in Verbindung mit kapazitiven Drucksensor 1 Shutter Weitbereichs-Vakuummesstechnik Drehzahlregelbare Substratdreheinrichtung (isoliert/nichtisoliert) 1 Sputterquelle für 125mm-Targets HF-Generator mit Matchbox und DC-Generator Schaltschrank mit SPS-Steuerung Visualisierung und Bedienung über TFT-Farb-Touch&Click-Terminal differentiell gepumptes Massenspektrometersystem mit Leitwertblenden, Software, Notebook und Drucker magnetventilgesteuerter Wasserverteiler Daten Pumpstand: Enddruck < 7x10-7 mbar Evakuierungszeit: auf 1x10-5 mbar < 6 Minuten Bilder der Anlage

Anlage: MSBA-400TE Beschreibung: Die Anlage dient zum Beschichten und Strukturieren von Substraten mittels Elektronenstrahlverdampfer. Grundausstattung: Heizkühlbare Edelstahlkammer Pumpsatz mit mechanischer Vorvakuumpumpe und Turbomolekularpumpe Ventilsatz mit 160er Schieberventil und Eckventilen/Bypass 1 Shutter Weitbereichs-Vakuummesstechnik Drehzahlregelbare Substratrotationseinrichtung, höhen- und winkelverstellbar Substrataufnahme bis 6" Quarzstrahler-Substratheizung als Rückseitenheizung bis 350°C, in Substratrotationseinrichtung montiert, auch als Vorderseitenheizung nutzbar Elektronenstrahlverdampfer 6kW, mit 6fach-Drehtiegelverdampfer Schaltschrank mit SPS-Steuerung, Hochspannungsversorgung und Strahlsteuereinheit Visualisierung und Bedienung über TFT-Farb-Touch&Click-Terminal pneumatikventilgesteuerter Wasserverteiler Daten Pumpstand/ Kammer: Enddruck < 9x10-8 mbar Evakuierungszeit: auf 1x10-7 mbar bei konfektionierter, sauber, leerer Kammer < 30 min Bild der Anlage